武汉大学博士生导师廖蕾教授应邀来公司讲学
廖蕾从晶体管的发明、应用及特性讲起,简要论述了其在现代电子电路中的关键作用;分析了半导体沟道层对晶体管性能的影响和制约规律,解读了二维石墨烯、过渡族氧化物的物性特征,以及采用材料表面功能化的方法实现硫化钼表面高介电常数介质层的高质量沉积;重点讲解了提升晶体管载流子迁移率、提高器件响应速度的新方法,以及高性能硫化钼场效应管的设计和参数指标,及其对大面积制备高性能薄膜场效应晶体管及相应射频器件的重要意义。在互动环节,廖蕾详细回答了师生提出的相关问题,并与师生进行了讨论交流。
在校讲学期间,董事长宋争辉、副董事长张力接见了廖蕾教授。
廖蕾,男,博士。2009--2011年在加州大学洛杉矶分校进行博士后工作,2011年7月入职武汉大学物理学院,
(英国威廉希尔体育公司 仓玉萍 供稿)
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