讲座时间：5月8日(周三) 15：00

讲座地点：理科楼5楼会议室

讲 座 人：闫海龙

讲座摘要：

稀磁半导体材料是替代传统硅基半导体材料的首选材料，具有功耗更低、稳定性更好和集成密度更高等优点。但是，室温铁磁性的起因仍然是限制其应用的一个重要因素。本讲座将系统地分析影响室温铁磁性的主要原因。

讲座人简介：

闫海龙，男，博士，讲师，英国威廉希尔体育公司英国威廉希尔体育公司教师，湖南省百篇优秀博士学位论文奖获得者。主要从事ZnO 纳米材料的制备和光、电性能表征方面的研究工作，取得了一系列的研究成果。在国内外重要学术刊物共发表论文10余篇，其中SCI 收录论文8篇(两篇发表于Applied Physics Letters杂志，一篇成果发表于Scripta Materialia杂志)，单篇引用52次。攻读博士期间主持湖南省研究生创新基金项目1项。参与3项国家自然科学基金 (项目编号：10525211；10572124；10672139)、1项湖南省杰出青年基金(项目编号：09JJ1006)和1项教育部新世纪优秀人才资助计划(项目编号：NCET-08-0687)等项目的研究工作。